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Étymologie
- De l’anglais resist (nom commun).
Nom commun
Resist \ʁeˈsist\ masculin
- (Anglicisme) (Chimie, Électronique) Abréviation de Fotoresist : photorésine / résine photosensible / photorésist.
Die Konzentration des Lösungsmittels ist kennzeichnend für die Viskosität des Resists. Demzufolge kann die Viskosität definiert eingestellt und es können beispielsweise in einem Schritt Schichtdicken von mehr als 200 µm Resist realisiert werden.
— (Christian Gebauer, Optimierung und Herstellung von Dualband-Fabry-Pérot-Filtern mit neuartigen Schichtmaterialien : Diplomarbeit, sous la dir. de Thomas Geßner, Karla Hiller, partie 7.1, Université de technologie de Chemnitz, Chemnitz, 13 décembre 2010, page 57)
- La concentration du solvant est caractéristique de la viscosité de la photorésine. Par conséquent, la viscosité peut être ajustée de manière définie et, par exemple, des épaisseurs de couche de plus de 200 µm de photorésine peuvent être réalisées en une seule étape.
Synonymes
Voir aussi
- Resist sur l’encyclopédie Wikipédia (en allemand)
Références