dépôt chimique en phase vapeur

Locution composée de dépôt, chimique, en et phase vapeur.

dépôt chimique en phase vapeur \de.po ʃi.mik ɑ̃ faz va.pœʁ\ masculin

1. (Chimie, Technique, Industrie) Dépôt en phase vapeur par des processus chimiques.
   • Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l’anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. — (dépôt chimique en phase vapeur)
   • Les techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) permettent de déposer des revêtements de diborure de zirconium ZrB₂ ou de diborure de titane TiB₂ à l'aide de précurseurs halogénés tels que le tétrachlorure de zirconium ZrCl₄, le tétrachlorure de titane TiCl₄ et le trichlorure de bore BCl₃ en phase gazeuse dans l’hydrogène H₂ comme réducteur. — (céramique ultraréfractaire)
   • Les fibres obtenues par dépôt chimique en phase vapeur à partir d’un précurseur de carbone tel que le benzène ont des propriétés et des applications différentes et sont en général appelées « nanofibres de carbone ». — (fibre de carbone)

• déposition chimique en phase vapeur

• couche mince
• dépôt physique en phase vapeur (par des processus physiques)

• dépôt en phase vapeur

• dépôt de couches atomiques

• dépôt chimique en phase vapeur sur l’encyclopédie Wikipédia

• Le Grand Dictionnaire terminologique, Office québécois de la langue française (dépôt chimique en phase vapeur)
• Bureau de la traduction du gouvernement du Canada, TERMIUM Plus, 1976-, en ligne → consulter cet ouvrage