dépôt par évaporation
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Étymologie
- Locution composée de dépôt, par et évaporation.
Locution nominale
| Singulier | Pluriel |
|---|---|
| dépôt par évaporation | dépôts par évaporation |
| \de.po paʁ e.va.pɔ.ʁa.sjɔ̃\ | |
dépôt par évaporation \de.po paʁ e.va.pɔ.ʁa.sjɔ̃\ masculin
- (Physique, Technique, Industrie) Synonyme de évaporation sous vide (cf. pour autres informations) : technique de dépôt sous vide par évaporation (aussi sublimation) d’une source, dont la matière se dépose et forme une couche mince sur le substrat.
La présente invention concerne une source de dépôt par évaporation (60), une unité de plaque de limitation (80), et un masque de dépôt par évaporation (70), agencés dans cet ordre. L’unité de plaque de limitation comprend une pluralité de plaques de limitation (81) agencées le long d’une première direction. Au moins une partie des faces (83) qui prescrivent des espaces limités (82) de l’unité de plaque de limitation, et des faces (84) qui sont opposées à la source de dépôt par évaporation de l’unité de plaque de limitation, sont composées d'au moins un de deux éléments de face externe (110, 120) qui peuvent être fixés à la section de base (85) et/ou détachés de celle-ci. Avec une telle configuration, il est possible de réaliser un appareil de dépôt par évaporation qui présente une excellente aptitude à l’usage, et qui peut former, sur un substrat de grande taille, un film de recouvrement avec des bavochages inhibés au niveau de ses bords.
— (Shinichi Kawato / 川戸伸一, Satoshi Inoue / 井上智, Tohru Sonoda / 園田通, WO2012090717 – Appareil de dépôt par évaporation, procédé de dépôt par évaporation, et appareil d’affichage électroluminescent organique sur OMPI - Organisation mondiale de la propriété intellectuelle, 05 juillet 2012)Le dépôt par évaporation libre est le dispositif le plus simple conceptuellement : la source fait directement face au substrat ; elle est portée à haute température de sorte qu’un flux d’atomes évaporés ou sublimés est émis. Une partie de ce flux est dirigé sur le substrat où va croître le film par condensation.
— (Simon Gelin, Dépôt de films d’oxyde de silicium par vaporisation sous vide : dynamique moléculaire et expériences : Thèse de doctorat, Université Paris-Est, Paris, 24 octobre 2016)Figure 1.1. Machine de dépôt par évaporation thermique et par canon à électrons, modèle Syrus 1350 commercialisé par Bühler Leybold Optics . Les dimensions de l’enceinte sont de l’ordre de 1 m. Les parois de l’enceinte sont en acier inoxydable poli. Le système d’évaporation par canon à électrons est situé en (4). En (3), on peut apercevoir un piège Meissner en cuivre derrière la protection métallique. Au-dessus, la grille est l’entrée de la pompe à vide. Les substrats sont disposés sur la calotte sphérique (2), appelée carousel, pour que l’angle d'incidence moyen de la vapeur soit proche de 0° quelque soit leur position. Le carousel peut tourner sur lui-même pendant le dépôt, pour assurer son homogénéité.
— (Simon Gelin, Dépôt de films d’oxyde de silicium par vaporisation sous vide : dynamique moléculaire et expériences : Thèse de doctorat, Université Paris-Est, Paris, 24 octobre 2016)
Voir aussi
- dépôt par évaporation sur l’encyclopédie Wikipédia
